3D принтер Nanoscribe Quantum X shape

Производитель Nanoscribe GmbH & Co.

Артикул NS-QXS

Все характеристики

Лизинг / Кредит

Узнать цену

Доставка и оплата

Top Stanok является официальным представителем Nanoscribe GmbH & Co. в России.

Модификации

Описание
Характеристики Хар-ки

Описание

Nanoscribe Quantum X shape — основанная на двухфотонной полимеризации (2PP), система лазерной литографии сочетает в себе запатентованные технологии печати, которые делают ее оптимальным инструментом для быстрого прототипирования и серийного производства пластин практически любой 2,5D и 3D формы с субмикронной точностью.

Система базируется на платформе Quantum X и использует все ее возможности, в том числе автоматизацию всего процесса - от обработки файлов задания, до удаленного управления процессом печати. Quantum X shape — идеальный инструмент для быстрого прототипирования в таких областях, как биомедицинские устройства, микрооптика, микроэлектромеханические системы (МЭМС), микрогидродинамике, инженерии поверхностей и многих других. Возможности работы с пластинами упрощают серийную обработку и мелкосерийное производство трехмерных микродеталей.

Возможные масштабы печати:

- 3D-печать на основе 2PP
- Литография в оттенках серого 2GL для невероятно быстрого и точного нанесения рисунка на поверхность
- Наноразмерная печать — контроль размера элемента во всех пространственных направлениях вплоть до 100 нанометров
- Микромасштабная печать – с типичными размерами от 50 до 700 микрометров.
- Мезомасштабная печать – с размерами до нескольких миллиметров
- Макропечать — XLF Print Set ускоряет серийное производство объемных сантиметровых объектов размером до 50 x 50 x 12 мм³.

Видео

Общие характеристики

Характеристика	NS-QX	NS-QXS	NS-QXA	NS-QXB
Технические характеристики Nanoscribe
Время производства		до 200 типичных мезомасштабных структур за ночь	20 мин для оптического массива с 8-кратной линзой
Диаметр поля печати	25 мм, деленное на увеличение объектива	до ≥ 4000 мкм		до ≥ 4000 мкм
Жизнеспособность клеток при печати живых клеток				> 90 % (через 1 ч после печати); > 85 % (через 4 ч после печати)
Контроль размера элемента	до 100 нм	до 100 нм	до 100 нм	до 100 нм
Лучшее разрешение по XY			до 100 нм
Лучшее разрешение по Z			до 500 нм
Материал печати	Nanoscribe GP-Silica (печать на стекле), Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Сторонние фотополимерные смолы	Nanoscribe GP-Silica (печать на стекле), Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Сторонние фотополимерные смолы	Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Сторонние фотополимерные смолы	Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Биочернила от Xpect Inx, Гидрогели Advanced BioMatrix, Смолы Nanoscribe GP (стекло), Сторонние фотополимерные смолы
Минимальная шероховатость поверхности Ra	до ≤ 5 нм	до ≤ 5 нм	до ≤ 10 нм
Размер области построения	50 x 50 мм	50 x 50 мм	50 x 50 мм	50 x 50 мм
Скорость сканирования	6,25 м/с, деленное на увеличение объектива	6,25 м/с, деленное на увеличение объектива		6,25 м/с, деленное на увеличение объектива
Субстрат	Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Предметные стекла для микроскопа (76 x 26 мм), Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы	Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Предметные стекла для микроскопа (76 x 26 мм), Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы	Массивы волокон (v-канавка), Одиночные расщепленные волокна (одномодовые/многомодовые), Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы, Фотонные чипы (в разобранном виде/TO can)	Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Предметные стекла для микроскопа (76 x 26 мм), Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы, Чашки для ячеек MatTek (35 мм или 50 мм)
Технология печати	2GL (Двухфотонная литография в оттенках серого)	2GL (Двухфотонная литография в оттенках серого), 2PP (Послойная двухфотонная полимеризация)	2PP (Послойная двухфотонная полимеризация), Погружная лазерная литография	2GL (Двухфотонная литография в оттенках серого), 2PP (Послойная двухфотонная полимеризация)
Точность автофокуса	до ≤ 30 нм	до ≤ 30 нм
Точность формы	до ≤ 200 нм	до ≤ 200 нм	≤ 200 нм (ИСО 25178)	до ≤ 200 нм

Особенности

2.5D литография в оттенках серого 2GL

Высокопроизводительное аддитивное производство топографий 2,5D путем настройки отдельных вокселей с помощью 2GL ®.

Пакетная обработка в масштабе пластин

Мелкосерийное производство на пластинах размером до 6 дюймов и полностью адресное поле печати 25 см².

Промышленное микропроизводство

Удобное программное обеспечение и автоматические процедуры калибровки для субмикронной точности формы

Применение

Микронное 3D-производство

Микронное 3D-производство для исследовательских лабораторий и многопользовательских объектов с высочайшими требованиями к качеству и производительности в следующих областях:

- Естественные науки
- Материаловедение
- Микрофлюидика
- Микромеханика и МЭМС
- Преломляющая микрооптика
- Дифракционная микрооптика
- Интегрированная фотоника

Инновационные исследования

Предназначен для лучших в своем классе новаторов в области исследований и промышленности, чтобы раскрыть весь потенциал микропроизводства с помощью

- Быстрого прототипирования
- Серийной обработки / мелкосерийного производства
- Печати на пластинах

3D принтер Nanoscribe Quantum X shape

2.5D литография в оттенках серого 2GL

Пакетная обработка в масштабе пластин

Промышленное микропроизводство

Микронное 3D-производство

Инновационные исследования