3D принтер Nanoscribe Quantum X align

Производитель Nanoscribe GmbH & Co.

Артикул NS-QXA

Все характеристики

Лизинг / Кредит

Узнать цену

Доставка и оплата

Top Stanok является официальным представителем Nanoscribe GmbH & Co. в России.

Модификации

Описание
Характеристики Хар-ки

Описание

Quantum X align расширяет проверенную на практике технологию 3D-микрообработки Nanoscribe, добавляя возможности высокоточного выравнивания для высокоточного размещения печатных структур. Печатайте микрооптику произвольной формы непосредственно на оптические волокна или фотонные чипы с субмикронной точностью.

Quantum X align автоматически определяет оптические интерфейсы на фотонных чипах или волокнах и их пространственную ориентацию, а дифракционные оптические элементы произвольной формы печатает непосредственно на месте с учетом наклона. Автоматическая система трехмерного обнаружения сердцевины волокна и автоматическая коррекция наклона гарантируют точное выравнивание и минимальные потери при соединении при печати на одиночных сколотых волокнах или массивах волокон с V-образными канавками. Quantum X align также оснащен модулем конфокальной визуализации для трехмерного отображения топографии подложки и полностью автоматического пространственного выравнивания по заранее заданным маркерам или волноводам.

Возможные масштабы печати:

- Высокоточная 3D-печать на основе двухфотонной полимеризации (2PP);
- Простая и надежная установка с помощью погружной лазерной литографии (DiLL);
- Контроль размера элемента до 100 нанометров;
- Выровненная 3D-печать в предопределенных позициях.

Видео

Общие характеристики

Характеристика	NS-QX	NS-QXS	NS-QXA	NS-QXB
Технические характеристики Nanoscribe
Время производства		до 200 типичных мезомасштабных структур за ночь	20 мин для оптического массива с 8-кратной линзой
Диаметр поля печати	25 мм, деленное на увеличение объектива	до ≥ 4000 мкм		до ≥ 4000 мкм
Жизнеспособность клеток при печати живых клеток				> 90 % (через 1 ч после печати); > 85 % (через 4 ч после печати)
Контроль размера элемента	до 100 нм	до 100 нм	до 100 нм	до 100 нм
Лучшее разрешение по XY			до 100 нм
Лучшее разрешение по Z			до 500 нм
Материал печати	Nanoscribe GP-Silica (печать на стекле), Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Сторонние фотополимерные смолы	Nanoscribe GP-Silica (печать на стекле), Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Сторонние фотополимерные смолы	Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Сторонние фотополимерные смолы	Nanoscribe IP Photoresins (полимерная печать), Биочернила от Xpect Inx, Гидрогели Advanced BioMatrix, Смолы Nanoscribe GP (стекло), Сторонние фотополимерные смолы
Минимальная шероховатость поверхности Ra	до ≤ 5 нм	до ≤ 5 нм	до ≤ 10 нм
Размер области построения	50 x 50 мм	50 x 50 мм	50 x 50 мм	50 x 50 мм
Скорость сканирования	6,25 м/с, деленное на увеличение объектива	6,25 м/с, деленное на увеличение объектива		6,25 м/с, деленное на увеличение объектива
Субстрат	Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Предметные стекла для микроскопа (76 x 26 мм), Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы	Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Предметные стекла для микроскопа (76 x 26 мм), Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы	Массивы волокон (v-канавка), Одиночные расщепленные волокна (одномодовые/многомодовые), Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы, Фотонные чипы (в разобранном виде/TO can)	Пластины от 25,4 мм до 150 мм, Предметные стекла для микроскопа (76 x 26 мм), Стекло, кремний и другие прозрачные и непрозрачные материалы, Чашки для ячеек MatTek (35 мм или 50 мм)
Технология печати	2GL (Двухфотонная литография в оттенках серого)	2GL (Двухфотонная литография в оттенках серого), 2PP (Послойная двухфотонная полимеризация)	2PP (Послойная двухфотонная полимеризация), Погружная лазерная литография	2GL (Двухфотонная литография в оттенках серого), 2PP (Послойная двухфотонная полимеризация)
Точность автофокуса	до ≤ 30 нм	до ≤ 30 нм
Точность формы	до ≤ 200 нм	до ≤ 200 нм	≤ 200 нм (ИСО 25178)	до ≤ 200 нм

Особенности

Микрооптическая связь в свободном пространстве (FSMOC)

Микрооптика произвольной формы, изготовленная непосредственно на оптическом интерфейсе чипов или волокон, позволяет адаптировать форму луча и корректировать поле моды. Это приводит к смягчению допусков на юстировку между оптическими элементами и устраняет необходимость в активной юстировке.

Сверхточное выравнивание

Автоматическая система выравнивания с наноточностью во всех пространственных направлениях. Высокоточное обнаружение сердцевины волокна на основе блока подсветки волокна. Конфокальный модуль для обнаружения трехмерной топографии и точного выравнивания на чипе и его гранях. Автоматическое распознавание наклона носителя и регулировка печати по трем осям вращения.

Применение

Производство микрооптики

Прототипирование и мелкосерийное производство точно ориентированной микрооптики произвольной формы:

- Линзовые волоконные массивы для оптических межсоединений
- Оптика формирования изображения и формирования луча на отдельных волокнах или массивах волокон
- Оптические межсоединения на интегрированных фотонных чипах
- Формирование луча или сбор света на интегрированных фотонных чипах

Исследования в области микрооптики

Предназначен для пионеров и новаторов в области исследований и промышленности, работающих в

- Интегрированная фотоника
- Фотонная упаковка
- Медицинское оборудование
- Оптическое зондирование
- Квантовая технология

3D принтер Nanoscribe Quantum X align

Микрооптическая связь в свободном пространстве (FSMOC)

Сверхточное выравнивание

Производство микрооптики

Исследования в области микрооптики